施設の役割

「マイクロマシニング棟」は600平方メートルのクリーンルームを持ち、 2インチのシリコンウェハを処理して本格的に集積回路を実現できる環境です。 「ナノマシニング棟」は150平方メートルのクリーンルームで、 ナノマシニング関連の研究を中心に利用できます。 大学院生を中心とした若手研究者の自由な発想や創造性の養成、 研究科・専攻の枠を越えた学際的な協同による幅広い資質を持つ人材の育成、 国内企業や他大学等の研究者を受け入れた共同研究、 特別招聘外国人研究員のような国外からの研究者の受入あるいは 若手研究者による海外調査のような国際交流などを積極的に実施し、 その成果を世界中に発信します。