利用しやすいMNCを目指して

ハイテク技術は大規模に集積した総合技術であるので、 さまざまな設備や知識が必要です。 研究室がそれぞれ独自に高価な設備をかかえて研究すると 無駄が多くなるので共同で利用する工夫が必要です。 「マイクロマシニング棟」1階のクリーンルームでは、 維持のし易さを優先して小さな2インチウェハを処理するようになっています。 本格的な集積回路を大学内で試作できる施設として整備しておりますので、 大いに利用してください。 2階に分析や光学実験、測定評価などの実験室があります。 3階の一部は「センサ・マイクロマシン博物館」として、 いろいろな所で作られたデバイスを集め展示しています。 「ナノマシニング棟」では、フォトマスク製造関係の他、 レーザ描画装置や長焦点の投影露光装置が設置されています。 また走査型プローブ顕微鏡関係やナノマシニング関係の研究に 利用しやすい環境になっています。


MNCの設備は全て共用であり、多くの人に実質的に利用されるように努めています。 MNCは東北大の教職員であればどなたでも利用できます。 また、外部の方(企業、他大学、国立機関、外国の大学・研究所)も、 東北大のどこかの研究室とコンタクトを取って利用いただければ、 基本的にはどなたでも利用できます。 設備の維持を研究者や学生の手で行っているので、 試作や分析の請負をするのではなく、 装置担当者の指導を受けて直接に装置を運転して 研究していただく方針を基本にしています。 従ってメンテナンスにもご協力いただいています。利用申請はいつでも受け付け、 すぐに利用できます。 装置の状況は電子メールにより関係者全員にお知らせしています。


大学で集積し整理した関連分野の情報を自由に利用できるように オープン化に努めています。 企業からの施設の見学や技術的な相談にも応じています。 情報提供による大学の貢献が期待されるため、 関係者にご案内してセミナーを開き、 この分野の系統的な講義なども行っています。


(利用にあたっての安全管理等についてはMNC安全マニュアルをご利用ください)

利用の方針

MNCでは半導体集積回路製作技術を中心としたハイテク技術をできるだけ 多くの方々が習得し、高いレベルの研究を具体化し、 産業を生み出すような実用的なデバイスを実現することに 広く貢献できることを目指しています。 このため、設備の使用においては利用者自身が、使用方法を十分理解し、 十分な性能を発揮するよう調節に心がけ、次の使用者のことを考えて、 後処理やメンテナンスに参加することを基本としています。 相互の情報交換と協力により、 利用しやすい設備とレベルの高い研究を維持したいと考えています。

利用形態
基本的に制限はありませんが、企業の方は大学との共同研究 (どの方式でも可) の手続きを取っていただいてご利用いただけます。
利用テーマ
大学での研究にふさわしければ基本的に制限はありません。 テーマの審査等はMNCでは行っていません。
利用申請
随時受け付けています。利用者は必ずMNC利用登録手続きを行ってください。
利用登録
MNCをご利用になられる際には、下記の書類を提出していただきます。
(1)利用者責任者登録申請書(pdf 文書)
(2)利用者登録申請書(pdf 文書)
(3)大学の職員証あるいは学生証
入館証として登録しますので、必ずご持参ください。
研究生等で学生証がない方は、図書館の利用カードで登録できます。
・申請場所:MNCマイクロマシニング棟3階 共同研究室
・受付時間:午前10時から午後4時まで
利用期間
基本的に制限はありません。いつでも開始し、終了できます。
利用経費
消耗品の利用者負担と機器使用料を基本にしています。
特許について
特許の取得を推奨しています。特許の申請については実施した研究形態 (共同研究,文部省科学研究等) の取り決めに従ってください。